Em teoria, água ultrapura se refere à água com resistividade maior que 18 M惟*cm (25 掳C) ou próxima a 18,3 M惟*cm (25 掳C). Além de moléculas de água, essa água quase não tem impurezas, e não há substâncias orgânicas como bactérias, vírus e dioxinas contendo cloro.

Água ultrapura é usada principalmente para desenvolver materiais ultrapuros, como materiais originais semicondutores, materiais cerâmicos nanofinos e água para a indústria de energia nuclear.

Essa água é difícil de ser obtida no processo geral. Teoricamente, ela pode ser tratada por osmose reversa de dois estágios e, então, por uma série de polimento de resina de troca mista.

A água ultrapura é atualmente usada principalmente na indústria de semicondutores e na indústria nuclear.

Na indústria eletrônica, desde a limpeza de vários componentes eletrônicos até a preparação de uma série de soluções de processo, é necessária água pura de alta qualidade, especialmente para a produção de dispositivos semicondutores e circuitos integrados de larga escala. Ultrapura é usada em quase todos os processos de limpeza de água. Água ultrapura preparada por resina de grau eletrônico requer basicamente uma resistência de 15 M惟*cm (25 掳C) ou mais.

O tratamento de água de usinas nucleares é completamente diferente daquele encontrado em usinas comuns. Em circuitos de usinas nucleares, e em ambientes onde todas as atividades devem ser eliminadas, é absolutamente essencial que a resina usada não libere íons ou substâncias que possam causar precipitação e corrosão. Portanto, a resina de grau nuclear deve ter estabilidade extremamente alta, deve atingir um nível muito alto de regeneração e deve ter uma pureza muito alta.

Água ultrapura preparada com resina de grau nuclear requer basicamente uma resistência de 18 M惟*cm (25 掳C) ou mais.