SEPLITE ®Monojato ™Resina de polimento de partículas uniformes, qualidade ultrapura
Na produção de componentes eletrônicos, circuitos integrados, chips e outras indústrias eletrônicas, quase todo processo requer água pura para operações de limpeza e a peça de trabalho está em contato direto com a água. Por um lado, pode limpar as manchas no processo, por outro lado, é necessário evitar que impurezas na água formem poluição secundária na peça de trabalho. O conceito de "água ultrapura de grau eletrônico" se tornou uma das partes mais importantes das indústrias eletrônicas.
Processo tecnológico tradicional para preparação de água ultrapura de grau eletrônico:
No processo de preparação e polimento de água ultrapura,
resinas de polimento de alta qualidade
com maior precisão de processamento, maior nível de pureza e tamanho de partícula uniforme são necessários para atingir a purificação da água. A Sunresin desenvolveu a tecnologia de "granulação a jato" e usa a linha de produção de resina líder mundial produzida com alta pureza e alta transformação,
resina de troca catiônica tipo H de grão uniforme
e
Resina de troca aniônica tipo OH
com coeficiente de uniformidade
Comparação entre o processo de "granulação a jato" e o processo tradicional:
Indicadores de entrada e saída de água e tipo de resina polida refinada da Sunresin:
| Produto | Especificações de água de entrada | Especificações da água de saída |
|---|---|---|
| Seplite ® Monojet MB615U | Resistividade elétrica锛�
16M惟路CM | Resistividade elétrica锛�
18,1 milhões de CM |
| TOC±±20ppb | TOC±±2ppb | |
| Si锛�5ppb | Si锛�1ppb | |
| Seplite ® Monojet MB610U | Resistividade elétrica锛�
17M惟路CM | Resistividade elétrica锛�
18,2 milhões de CM |
| TOC±15ppb | TOC±±2ppb | |
| Si锛�2ppb | Si 0,5 ppb |
Vantagens da resina de polimento refinada da Sunresin:
1. Com melhor dinâmica de fluidos, o sistema opera com menos queda de pressão. A resina de polimento da Sunresin usa resinas de ânion e cátion em gel com tamanho de partícula uniforme, e o coeficiente de uniformidade é menor que 1,1. Ao preencher, evita o preenchimento de vazios com pequenas partículas de resina, aumenta o espaço efetivo e reduz significativamente a resistência do fluido.
2. Tenha uma velocidade de troca maior e capacidade de troca de trabalho. Sob as mesmas condições de processamento, a resina de partículas uniformes pode fornecer uma área de superfície de resina maior e o menor caminho de difusão de íons, melhorando significativamente a velocidade de troca de resina e a capacidade de troca de trabalho.
3. Melhor resistência mecânica e menor perda de esmagamento de resina durante a operação.
4. Maior pureza e teor de íons de impurezas extremamente baixo.
5. Taxa de conversão tipo H / tipo OH muito alta, taxa tipo H> 99%, taxa tipo OH> 96%.
6. Ciclo de fornecimento curto, atendendo melhor às necessidades do cliente.
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