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Produção de Água Ultrapura

Resina ultrapura para semicondutores e energia nuclear
Em teoria, água ultrapura se refere à água com uma resistividade maior que 18 MΩ * cm (25 ° C) ou próxima a 18,3 MΩ * cm (25 ° C). Além das moléculas de água, essa água quase não tem impurezas e não existem substâncias orgânicas, como bactérias, vírus e dioxinas contendo cloro.

Água ultrapura é usada principalmente para desenvolver materiais ultra-puros, como materiais semicondutores originais, materiais cerâmicos nanofinos e água para a indústria de energia nuclear.

Essa água é difícil de obter no processo geral. Teoricamente, ele pode ser tratado por osmose reversa de dois estágios e, em seguida, por uma série de polimentos de resina de troca mista.

A água ultrapura é atualmente usada principalmente na indústria de semicondutores e na indústria nuclear.
Na indústria eletrônica, desde a limpeza de vários componentes eletrônicos até a preparação de uma série de soluções de processo, é necessária água pura de alta qualidade, especialmente para a produção de dispositivos semicondutores e circuitos integrados em grande escala. Ultra-puro é usado em quase todos os processos de limpeza com água. Água ultrapura preparada por resina de grau eletrônico requer basicamente uma resistência de 15 MΩ * cm (25 ° C) ou mais.

O tratamento de água das usinas nucleares é completamente diferente daquele encontrado nas usinas convencionais. Em circuitos de usinas nucleares, e em ambientes onde todas as atividades devem ser eliminadas, é absolutamente essencial que a resina utilizada não libere íons ou substâncias que possam causar precipitação e corrosão. Portanto, a resina de grau nuclear deve ter estabilidade extremamente alta, deve atingir um nível muito alto de regeneração e deve ter uma pureza muito alta.

Água ultrapura preparada por resina de grau nuclear requer basicamente uma resistência de 18 MΩ * cm (25 ° C) ou mais.

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